拓荆科技

拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司在北京、上海、海宁、沈阳、美国成立子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品先进水平，公司产品已广泛应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等新技术领域。公司产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的60多条生产线，并设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。

工商信息显示，拓荆科技股份有限公司法定代表人为刘静， 成立于2010-04-28，注册资本28269.30万人民币， 公司经营状态为存续，所属行业为专用设备制造业， 注册地址位于辽宁省沈阳市浑南区全运路109-3号（109-3号）14层。